Samsung stawia wszystko na litografię 2nm. Firma uruchamia strategię „selekcji i koncentracji”
Samsung rozpoczął wdrażanie nowej strategii operacyjnej, mającej na celu przyspieszenie rozwoju procesu litograficznego 2 nm z bramkami typu GAA (Gate-All-Around). Firma planuje zwiększyć wydajność produkcji do poziomu 70% w ciągu najbliższych sześciu miesięcy, co pozwoliłoby na rozpoczęcie masowej produkcji pod koniec 2025 roku. Klienci, według doniesień, będą musieli pozostać przy tej technologii nawet przez najbliższe 2–3 lata.
Informacje pochodzą z raportu południowokoreańskiego serwisu Chosun, który ujawnia, że Samsung uruchomił wewnętrzny program „Selection & Concentration”. Zespół ds. Wsparcia Biznesowego oraz Samsung Global Research prowadzą intensywne rozmowy z potencjalnymi partnerami, próbując przekonać ich do inwestycji w rozwój chipów 2 nm, zamiast ryzykować dalszy rozwój mniej opłacalnych, eksperymentalnych technologii sub-2nm.
Samsung liczy na to, że dzięki postępom w litografii GAA uda mu się zrekompensować wielomiliardowe straty, jakie generuje obecnie dział foundry (produkcji układów scalonych). Mimo wcześniejszych planów, firma musiała przesunąć otwarcie swojej amerykańskiej fabryki w Taylor (w Teksasie) na 2026 rok, co również wpłynęło na opóźnienia w rozwoju technologii 1.4 nm.
Jednocześnie pojawiły się niepokojące doniesienia: Qualcomm miał zrezygnować z usług Samsunga przy produkcji procesorów Snapdragon 8 Elite Gen 2, mimo że testowa produkcja została już zakończona. W rezultacie TSMC ma być jedynym partnerem wykonawczym dla tej generacji chipów. To ogromny cios dla koreańskiej firmy.
Samsung jednak nie składa broni – firma ukończyła już projekt drugiej generacji procesu 2nm, a do 2027 roku planuje wdrożyć kolejną iterację: SF2P+. Taka strategia może pomóc w odbudowie zaufania klientów i realnie zagrozić dominacji TSMC na rynku zaawansowanych litografii.
